• ガスフェーズ反応計測
• 真空の完全性を確認
• トレースレベルの汚染を特定
• プロセスと背景蒸着を計測
• ガス純度を定性

• 四重極をベースとしたガス分析システムで複雑なプロセスを監視
• 7日間24時間監視で歩留まりと処理能力を最大化し、コストを最少化
• コンパクトで、すべての高圧真空チャンバーにインストールできる手頃な価格
• HexBlock™サンプリングシステムが作業を最大化
• 組込み式CDGでプロセス圧監視と真空インターロック
• オプションで調整用校正レファレンスとガスレファレンスあり
• 長寿命のクローズドイオンソースが、腐食性と反応性ガスに耐久性を持ちながら、サブPPMレベルまでの汚染を検出
• 軽量で持ち運びが簡単

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ASSOCIATED TECHNICAL INFORMATION

Brochures and Datasheets:

Brochure - Transpector CPM Compact Process Monitor English

Technical Information:

Application Note - Transpector CPM - Integrated Process Monitor for 300mm High Pressure Degas English

Technical Note - Choosing the Appropriate RGA English

Technical Note - Etch Process Monitoring with the Transpector Residual Gas Analyzer English

Technical Note - Gas Purge and CPM Sensor Lifetime English

Technical Note - Heating Jackets Can Improve RGA Performance English

Technical Note - The Optimization of Electron Energy for RGAs English

Technical Note - The Use of Quadrupole Mass Spectrometry to Detect Sub-PPM Level Contaminants in Gas-Phase Samples and Processes English

Technical Note - Transpector CPM Calibration Reference English

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